【65奈米光罩檢測系列(三)】檢測65奈米光罩缺陷 反射光與穿透光模式相輔相成

2007 年 03 月 29 日
在新電子251期中,已深入探討在65奈米製程中規畫缺陷的反射光與穿透光檢測模式,並提出通用於兩種檢測模式的缺陷偵測的建議規則。本期文章中,則在兩個圖案對圖案模式中,處理實際的產品光罩。  ...
》想看更多內容?快來【免費加入會員】【登入會員】,享受更多閱讀文章的權限喔!
標籤
相關文章

具價格低/可重複燒錄特性 HT48E50試作電子遊戲機

2007 年 05 月 31 日

降壓轉換提供定電流輸出 高亮度LED電路設計有譜

2008 年 03 月 05 日

滿足功耗/通訊/人機介面設計 MCU打造智慧型恆溫器

2016 年 01 月 25 日

借力MCU/sub-GHz收發器 無線M-Bus加速智慧儀表普及

2015 年 07 月 06 日

減少基地台使用量  Weightless網路部署輕鬆省

2016 年 12 月 19 日

UNO R3或R4?好難決定!兩款開發板選擇指南,幫專案找出最適配開發板

2025 年 01 月 28 日
前一篇
恩智浦新一代雙極電晶體提升能源效率
下一篇
鉅景因應市場需求進軍手機MCP市場